洗凈液CMP1400S
特性與賣點(diǎn):高PH值,有效去除有機(jī)和無機(jī)微粒、低泡、易漂洗,極低金屬離子含量。太陽(yáng)能晶園研磨后的油脂,研磨拋光劑,無機(jī)粉塵,適合半導(dǎo)體回路制造、半導(dǎo)體組件、光刻膠顯影后、CMP前后處理、CVD前后處理洗凈液。
使用方法:1、刷洗、噴淋、超聲波
2、濃度:3-30%
包 裝:20L/桶
洗凈液CMP1406
特性與賣點(diǎn):高PH值,藍(lán)寶石洗凈液,晶園研磨后表面所附著油脂,蠟,研磨拋光劑與粉塵,洗凈力佳,螯和力強(qiáng),低泡易生物分解,低COD,螯合分解力強(qiáng),低殘留,易漂洗,耐硬水。
使用方法:1、刷洗、噴淋、超聲波
2、濃度:3-30%
包 裝:20L/桶