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全新光電選擇LayTec原位測量技術 加強VCSEL制造

星之球科技 來源:微迷網(wǎng)2018-05-25 我要評論(0 )   

據(jù)麥姆斯咨詢報道,中國臺灣純代工廠Visual Photonics Epitaxy Co Ltd(VPEC,全新光電)近日宣布為其VCSEL(垂直腔面發(fā)射激光器

 據(jù)麥姆斯咨詢報道,中國臺灣純代工廠Visual Photonics Epitaxy Co Ltd(VPEC,全新光電)近日宣布為其VCSEL(垂直腔面發(fā)射激光器)生產(chǎn)引進了德國柏林廠商LayTec的原位測量產(chǎn)品。
全新光電選擇LayTec原位測量技術,加強VCSEL制造
LayTec的EpiTT/VCSEL包括兩個光纖測量頭:一個用于標準EpiTT,另一個用于光譜反射率傳感(R-VCSEL)。兩個光纖測量頭均可通過EpiCurve?測量頭上的轉接法蘭進行連接EpiCurve?/VCSEL系統(tǒng),該項設置可同時集成完整的EpiCurve?TT性能和DBR(分布式布拉格反射鏡)阻帶和腔傾角位置的頻譜監(jiān)測功能。這款四合一計量工具安裝于Aixtron?G3行星式反應器頂部。EpiTT/VCSEL和EpiCurve?TT/VCSEL由新型軟件模塊供電,可實現(xiàn)單阱和多阱運行。
為了支持全球3D傳感和其它快速增長的應用對VCSEL芯片的需求,LayTec將VCSEL Add-On用于其EpiTT和EpiCurve TT系統(tǒng),提供了額外的原位光譜反射率傳感,并可在GaAs基和InP基近紅外/紅外(NIR/IR)VCSEL工藝波長范圍內進行定制,實現(xiàn)這類高度復雜的多層結構器件的高良率制造。
VCSEL Add-On也可作為現(xiàn)有EpiTT或EpiCurve TT系統(tǒng)的升級版本。憑借配備先進的實時分析算法,除了EpiTT的晶圓溫度和生長速率監(jiān)測,以及EpiCurve TT的晶圓彎曲測量外,它還能夠在VCSEL外延過程中監(jiān)測DBR(分布式布拉格反射鏡)阻帶和腔傾角位置。
全新光電選擇LayTec原位測量技術,加強VCSEL制造
蘋果iPhone X紅外點陣投影器中的VCSEL芯片
來源:《蘋果iPhone X紅外點陣投影器》
“VPEC為VCSEL晶圓制造選擇了LayTec市場領先的原位測量技術,作為實現(xiàn)我們高標準的品質和良率的基本要素,” VPEC高級副總裁Neil Chen評價說,“將現(xiàn)有的晶圓溫度、晶圓彎曲和生長速率控制,結合新的頻譜監(jiān)測性能,是VCSEL代工廠工藝轉移、快速調整配方和擴大規(guī)模的關鍵。”

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