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       大族激光8月10日在互動平臺表示，公司在研光刻機(jī)項目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的應(yīng)用，目前已接到少量訂單。

　　光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。而光刻機(jī)是中國芯片發(fā)展的最大障礙。

　　眾所周知，高端芯片制造所需的光刻機(jī)一直以來被荷蘭ASML公司壟斷，一臺精密光刻機(jī)售價上百億，而我國半導(dǎo)體行業(yè)起步較晚，光刻機(jī)技術(shù)與ASML的差距非常大。

       具體地，我國光刻機(jī)最高技術(shù)也就上海微電子所生產(chǎn)的90nm光刻機(jī)。除此之外，目前合肥芯碩半導(dǎo)體公司也具備量產(chǎn)200nm光刻機(jī)的實力，無錫影幻半導(dǎo)體公司也具備200nm光刻機(jī)量產(chǎn)的實力。而ASML則在7nm級別。

        簡單來看，這些數(shù)字差距可能看起來不大，但事實上，90nm跟28nm或者是7nm是千差萬別的，光刻機(jī)每上一個臺階技術(shù)難度就會大大增加，可能從90nm升級到65nm并不難，但是從65nm升級到45nm，就是一個技術(shù)節(jié)點了，至于28nm、14nm和7nm，甚至未來有可能出現(xiàn)的3nm，那難度就更大了。也正因為如此，我國的光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度一直都比較緩慢。

　　據(jù)有關(guān)媒體報道，光刻機(jī)正成為華為的第四場戰(zhàn)役。據(jù)悉，余承東在一次百人大會上的時候透露過，早在四年前，華為就已經(jīng)為接下來集團(tuán)的布局做好準(zhǔn)備了，他們在2016年的時候就已經(jīng)成立了團(tuán)隊去研發(fā)光刻機(jī)，現(xiàn)在已經(jīng)取得了很大的進(jìn)展。