磁控濺射鍍膜機(jī)是一種普適鍍膜機(jī)，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實(shí)驗(yàn)室制備有機(jī)光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。
磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜原理為磁控濺射，相對化學(xué)鍍膜方式，其優(yōu)點(diǎn)為膜層附著力更強(qiáng)，焊接后拉力測試大于10N；均勻性更好；化學(xué)鍍膜在60倍顯微鏡下可看到明顯的針孔、凸起，而磁控濺射沒有針孔和凸起。 磁控濺射鍍膜方式因生產(chǎn)產(chǎn)品過程中始終保持真空，因此無二次污染。下圖為設(shè)備實(shí)物圖。 （磁控濺射鍍膜機(jī)） 除了以上優(yōu)點(diǎn)，磁控濺射鍍膜機(jī)單純鍍金產(chǎn)能為4萬+根/月，且鍍膜種類多，含蓋所有金屬，典型鍍層有Cr、Ti、Ni、Au。也可以進(jìn)行混合鍍膜，比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。 磁控濺射鍍膜機(jī)的優(yōu)勢明顯，一直以高功率及保偏器件為產(chǎn)品生產(chǎn)研發(fā)導(dǎo)向的光越科技（深圳）有限公司近期引進(jìn)磁控濺射鍍膜機(jī)并且經(jīng)過研發(fā)人員的不斷驗(yàn)證，完成高精度研磨機(jī)項(xiàng)目，磁控濺射鍍金系列產(chǎn)品也正式投入生產(chǎn)，產(chǎn)品系列如下： 金屬薄膜質(zhì)量優(yōu) ,耐腐蝕性強(qiáng)； 鍍金薄膜均勻性致密，膜層光滑密實(shí)，顯微鏡下觀察無針孔； 高牢固度附著力（優(yōu)于蒸發(fā)機(jī)），與基片結(jié)合度高，鍍膜控制精準(zhǔn)； 鍍膜有效面積：50x50mm ，金靶純度99.99%。 （空氣入射5°反射率曲線，測試波段中遠(yuǎn)紅外2000-25000nm） （空氣入射5°金反射率測試曲線，測試波段400-2500nm） （空氣入射45°光譜曲線，測量波段400-2500nm） 金+保護(hù)膜（400-20000nm） （金+保護(hù)膜2000-20000nm） 金屬化藍(lán)寶石窗口片是使用鉻、鎳、金鍍于藍(lán)寶石窗口片邊緣制作而成的新型窗口片，金屬膜邊緣可直接焊接或連接到光學(xué)機(jī)械裝配上，達(dá)到密封效果。 應(yīng)用：光通訊、激光窗口、紅外成像系統(tǒng)、醫(yī)療設(shè)備等。 優(yōu)勢：符合MIL-STD-883可焊性標(biāo)準(zhǔn)；金屬化材料可定制：Cr、Ti、Ni、Au等。 應(yīng)用：非制冷紅外探測器 優(yōu)勢：根據(jù)客戶定制鍍金處理Si基片，Ge基片；1~6.8μm透過率小，同時7.5~14μm的透過率高；可鍍制金屬化薄膜用于焊接。 斜面、微透鏡、楔形光纖所用的設(shè)備為完全自主研發(fā)，設(shè)備可依據(jù)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)不同而進(jìn)行修改。可生產(chǎn)多種要求的光纖。 使用該設(shè)備加工出的光纖精度高，角度誤差在1°內(nèi)，尺寸誤差控制在1微米內(nèi)，端面質(zhì)量好，在400倍端檢儀下觀察無可見劃痕、麻點(diǎn)。 透鏡光纖性能對比 參數(shù) 光越 市面出售產(chǎn)品 錐角誤差 ±2.5° ±5° 角度誤差 ±2.5° ±5° 曲率誤差 ±1um ±1um 偏心量 ±1um ±1.5um 鍍層拉力 ≥15N ≥10N 鍍金光纖性能對比 性能 光越 市面出售產(chǎn)品 鍍層拉力 ≥15N ≥10N 膜層厚度 約300nm 100~1000nm 單爐裝載量 672根/爐 350根/爐 單爐時間 2H/爐 5H/爐 備注： 錐角誤差主要是指微透鏡光纖的圓錐夾角，對于單模，其精度越高，加工曲率的良率就越高。對于多模光纖，錐度的精度越高其耦合效率一致性更好。 角度誤差主要是指楔形透鏡光纖的夾角，對于其精度越高，加工的曲率的良率就越高。對于多模光纖，錐度的精度越高其耦合效率一致性更好。 曲率精度越高，耦合效率越高。 偏心量越小，透鏡光纖的光軸與光纖包層軸線的夾角越小，從而方便耦合調(diào)試，提高生產(chǎn)效率。 大拉力可以降低產(chǎn)品使用不當(dāng)導(dǎo)致的壞損率，對使用環(huán)境適應(yīng)性更強(qiáng)。 行業(yè)的快速發(fā)展，產(chǎn)品迭代的速度也越來越快，而光越科技也將保持初心，主攻高功率及保偏器件市場，探索市場動向，為客戶提供更符合市場需求的產(chǎn)品。
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