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2月21日，利揚(yáng)芯片全資子公司利陽(yáng)芯（東莞）微電子有限公司正式開(kāi)業(yè)。

利陽(yáng)芯在晶圓減薄、拋光技術(shù)工藝方面，目前可提供業(yè)內(nèi)最高標(biāo)準(zhǔn)的超薄晶片減薄加工技術(shù)服務(wù)。采用全自動(dòng)研削拋光機(jī)，實(shí)現(xiàn)背面研削和去除應(yīng)力的一體化作業(yè)，可穩(wěn)定地實(shí)施厚度在25μm以下的薄型化加工。

利陽(yáng)芯在激光開(kāi)槽技術(shù)工藝方面，采用非接觸的激光加工去除晶圓切割道表面的金屬布線層，支持晶圓的開(kāi)槽和全切工藝，激光開(kāi)槽寬度20-120μm連續(xù)可調(diào)，開(kāi)槽深度可達(dá)26-30μm，有較好的槽型和深度穩(wěn)定性，適用于切割道存在多金屬、厚金、Low-K、鈍化層等多種情況。激光開(kāi)槽工藝技術(shù)解決常規(guī)刀片切割帶來(lái)的崩邊、金屬卷邊和金屬殘留等異常及正面鈍化層破裂的品質(zhì)問(wèn)題，避免芯片產(chǎn)品存在可靠性風(fēng)險(xiǎn)。

利陽(yáng)芯擁有業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的無(wú)損內(nèi)切激光隱切技術(shù)。隱形切割是將激光聚焦于晶圓內(nèi)部以形成改質(zhì)層，配合擴(kuò)片將晶圓分割成die（裸片/裸晶）的切割方法。該技術(shù)可適用于加工最窄20μm切割道的晶圓，（標(biāo)準(zhǔn)劃片道由60μm縮小至20μm），提升晶圓芯片面積的利用率，提高Gross dies的數(shù)量，預(yù)計(jì)降低芯片成本最大可達(dá)30%以上。激光隱切技術(shù)可取代很多傳統(tǒng)金剛石水切工藝無(wú)法解決的技術(shù)難題。

另外，激光隱切屬于干式環(huán)保工藝，無(wú)損內(nèi)切在加工品質(zhì)上的優(yōu)勢(shì)如下：（1）可以抑制加工碎屑的產(chǎn)生，抗污，防止芯片的正背面崩邊和側(cè)崩，有效避免對(duì)芯片線路的損傷；（2）隱切對(duì)正面鈍化層的保護(hù)更加完好，污染、微粒粘附、PAD氧化等影響鍵合難題均可以得到有效的解決，從而保證客戶芯片產(chǎn)品穩(wěn)定的品質(zhì)和良率，對(duì)高可靠性芯片包括特種芯片更是提升品質(zhì)的最佳解決方案。