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光學(xué)元件

紅外焦平面陣列技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀與趨勢

星之球激光 來源:迅天宇科技2011-08-24 我要評論(0 )   

跨入二十一世紀(jì)以來,紅外熱攝像技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)歷了三十多個(gè)年頭。其發(fā)展已從當(dāng)初的機(jī)械掃描機(jī)構(gòu)發(fā)展到了目前的全固體小型化全電子自掃描凝視攝像,特別是非致冷技術(shù)的...

    跨入二十一世紀(jì)以來,紅外熱攝像技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)歷了三十多個(gè)年頭。其發(fā)展已從當(dāng)初的機(jī)械掃描機(jī)構(gòu)發(fā)展到了目前的全固體小型化全電子自掃描凝視攝像,特別是非致冷技術(shù)的發(fā)展使紅外熱攝像技術(shù)從長期的主要軍事目的擴(kuò)展到諸如工業(yè)監(jiān)控測溫、執(zhí)法緝毒、安全防犯、醫(yī)療衛(wèi)生、遙感、設(shè)備先期性故障診斷與維護(hù)、海上救援、天文探測、車輛、飛行器和艦船的駕駛員夜視增強(qiáng)觀察儀等廣闊的民用領(lǐng)域。
     紅外熱攝像技術(shù)的發(fā)展速度主要取決于紅外探測器技術(shù)取得的進(jìn)展。三十年來,紅外探測器技術(shù)已從第一代的單元和線陣列發(fā)展到了第二代的二維時(shí)間延遲與積分(TDI)8~12μm的掃描和3~5μm的640×480元InSb凝視陣列,目前正在向焦平面超高密度集成探測器元、高性能、高可靠性、進(jìn)一步小型化、非致冷和軍民兩用技術(shù)的方向發(fā)展,正在由第二代陣列技術(shù)向第三代微型化高密度和高性能紅外焦平面陣列

技術(shù)方向發(fā)展。
發(fā)展現(xiàn)狀

  1.1 超高集成度的焦平面探測器像元

  像可見光CCD之類的攝像陣列一樣,要提高系統(tǒng)成像的分辨率和目標(biāo)識別能力,大幅度地提高系統(tǒng)焦平面紅外探測像元的集成度是一種重要的途徑。各公司廠家都在盡力增加焦平面陣列的像元數(shù),發(fā)展各種格式的大型或特大型紅外焦平面陣列。光行天下科技網(wǎng)

  在1~3μm的短波紅外(SWIR)焦平面陣列方面,由于多年來的軍用都集中在中波紅外(MWIR)和長波紅外(LWIR)波段,因而SWIR焦平面陣列技術(shù)的發(fā)展受到忽略,但由于這個(gè)波段的許多應(yīng)用是MWIR和LWIR應(yīng)用達(dá)不到的,因而近幾年來加快了對SWIR焦平面陣列技術(shù)的發(fā)展步伐,目前的陣列規(guī)模已達(dá)到2048×2048元(400萬元)。

  ·InGaAs紅外焦平面陣列:雖然實(shí)現(xiàn)短波紅外熱攝像的候選材料要求低溫冷卻工作,而且HgCdTe襯底失配率高,暗電流也高,唯有In0.53Ga0.47As的晶格常數(shù)與InP相同,暗電流密度低達(dá)3×10-8A/cm2,R0A>2×106Ω.cm2,D*>1013cmHz1/2W-1(室溫下),其光響應(yīng)峰值在0.9μm~1.7μm,可實(shí)現(xiàn)非致冷工作的高性能紅外焦平面陣列,其多年的光纖通信工業(yè)應(yīng)用使其具有大批量生產(chǎn)的能力,因而幾年來日益受到重視,美國傳感器無限公司在DARPA 和NVESD支持下正在加速發(fā)展這種非致冷的紅外焦平面陣列和攝像機(jī)技術(shù),其陣列尺寸已達(dá)到320×240元。

   ·HgCdTe陣列:由于軍用目的的需求,過去這種材料焦平面陣列技術(shù)的發(fā)展主要集中于中波和長波紅外波段應(yīng)用,但洛克威爾國際科學(xué)中心卻一直在發(fā)展1~3μm波段工作的HgCdTe焦平面陣列技術(shù),其主要目的是天文和低背景應(yīng)用,該中心在90年代中期已制出HQWAⅡ-1 1024×1024元陣列,目前已研制成功世界上最大的HQWAⅡ-2型2048×2048元的陣列,該中心正在計(jì)劃研制4096×4096元的特大型陣列。

在3~5μm的中波紅外焦平面陣列方面:中波紅外焦平面陣列技術(shù)的發(fā)展一直是紅外焦平面中發(fā)展最快的,主要有PtSi、InSb和HgCdTe三種陣列,其陣列規(guī)模已達(dá)到2048×2048元(400萬元)。

  ·PtSi陣列已形成大批量生產(chǎn)能力,典型陣列有640×480,801×512,1024×1024,1040×1040,柯達(dá)公司新近推出的產(chǎn)品高達(dá)1968×1968元,其陣列規(guī)模已接近于400萬元,HgCdTe中波焦平面陣列是目前所有焦平面中波工作陣列中集成度高,最引人注目的,洛克威爾國際科學(xué)中心在這方面的發(fā)展處于世界領(lǐng)先地位,除了640×480和1024×1024元的天文應(yīng)用陣列外,近期已準(zhǔn)備提供用戶使用的陣列為2048×2048元,并正在采用拼接技術(shù)研制4096×4096元的陣列,但工作溫度低于77K。

  ·InSb陣列是這個(gè)波段應(yīng)用中深受重視的器件,主要是低背景天文應(yīng)用陣列規(guī)格達(dá)1024×1024元,典型陣列還有640×480和640×512元。

  在長波紅外焦平面陣列方面,主要集中于HgCdTe,GaAlAs/GaAs多量子阱陣列,SiGe異質(zhì)結(jié)構(gòu)陣列和非致冷紅外焦平面陣列四種。HgCdTe陣列的發(fā)展一直較為緩慢,近幾年主要集中于GaAlAs/GaAs量子阱列和非致冷工作的紅外焦平面陣列技術(shù),發(fā)展極快,陣列規(guī)模已達(dá)到了640×480元。字串5

  ·HgCdTe焦平面陣列技術(shù),由于這種材料的電學(xué)特性,進(jìn)展一直較為緩慢,長波HgCdTe焦平面陣列規(guī)模僅為256×256元。

  ·GaAlAs/GaAs陣列是最近幾年來發(fā)展最快的,研究的國家公司機(jī)構(gòu)很多,如美國的洛克希德-馬丁、洛克威爾國際科學(xué)中心,雷聲、噴氣式推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室和空軍研究實(shí)驗(yàn)室等,日本的三菱電機(jī)和NTT,法國的湯姆遜和瑞典、加拿大、以色列的不少公司竟相研制發(fā)展,其中以噴氣式推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室、雷聲和洛克希德-馬丁公司的進(jìn)展最快,目前的陣列尺寸已達(dá)到640×484元,已評估了1024×1024元的雙色陣列,正在水平集成四色陣列。 

  ·GeSi/Si異質(zhì)結(jié)構(gòu)紅外焦平面陣列6,其工作機(jī)理類同于PtSi陣列。MBE技術(shù)的發(fā)展,為GeSi/Si、InSb和InGaAs、GaAlAs、HgCdTe等高性能大型陣列發(fā)展提供了先進(jìn)的制作技術(shù)。麻省理工學(xué)院和林肯實(shí)驗(yàn)室已制作了320×240元和400×400元的陣列,日本三菱電機(jī)公司的陣列規(guī)模已達(dá)到了512×512元,只是目前GeSi/Si陣列工作溫度明顯低于77K。

  ·非致冷紅外焦平面陣列,由于近幾年來取得的突破性進(jìn)展,器件和整機(jī)系統(tǒng)應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展均很迅速,主要用于8~14μm的長波紅外波段探測,像美國霍尼韋爾、得克薩斯儀器、洛克希德馬丁、雷聲、因迪哥系統(tǒng)、薩爾諾夫和波特蘭前視紅外系統(tǒng)公司等,日本三菱電機(jī)公司、英國GEC-馬可尼和瑞典、加拿大等國的公司都競相發(fā)展這種技術(shù),競爭幾乎遍及全球,發(fā)展甚為迅猛,目前常用商用陣列為320×240元,640×480元陣列即將問世。

1.2 高性能

  由于用采用諸如MBE、MOCVD這樣的高精度控制制作工藝,微機(jī)械加工技術(shù)和CMOS這樣的大型或特大型集成多路傳輸器,不但實(shí)現(xiàn)了如1024×1024,2048×2048元這樣的大型二維凝視紅外焦平面陣列的高速大容量的信號處理,而且獲得了高度均勻性的陣列焦平面響應(yīng)特性,進(jìn)一步提高了陣列的性能。

  短波紅外焦平面陣列,迅速實(shí)現(xiàn)了商用化。美國新澤西州傳感器無限公司的128×128和320×240元InGaAs焦平面陣列D*值>1013cmHz1/2W-1(室溫下),如冷卻到250K工作時(shí),D*>1014cmHz1/2W-1,1.3~1.6μm的量子效率接近90%,洛克威爾國際科學(xué)中心的PACE-1型1024×1024元陣列和HAWAⅡ-2型2048×2048元陣列,平均量子效率65.4%,光響應(yīng)不均勻性為4.3%。[page_break]#p#分頁標(biāo)題#e#

  中波紅外焦平面陣列器件中,PtSi陣列經(jīng)過二十來年的發(fā)展改進(jìn),性能大幅度提高,噪聲等效溫差(NETD)已優(yōu)于0.1℃,三菱512×512元IRCSD已達(dá)到0.07~0.033K,801×512元陣列填充因子61%,NETD為0.076℃,最小可分辨溫差0.17℃(尼奎斯特),薩爾諾夫的640×480元陣列NETD<0.18K,最小可分辨溫差MRT<0.04K(300K,積分時(shí)間33毫秒),三菱1040×1040元PtSi陣列不均勻性±2%;圣巴巴拉研究中心InSb 640×512元陣列的NEΔT優(yōu)于20mK,1024×1024元天文應(yīng)用的InSb陣列量子效率85%(0.9μm~5μm);洛克威爾國際科學(xué)中心PGM600-003 640×480元HgCdTe陣列77K量子效率68%,NEΔT平均值為0.013K,該中心的1024×1024和2048×2048元陣列也都具有良好的性能。字串7

  長波(8~14μm)紅外焦平面陣列,HgCdTe陣列發(fā)展時(shí)間最長,但陣列尺寸不大,目前的性能是非常好的,列工作溫度77~88K,量子效率70%~75%,,NETD為13mk,,雙波段工作陣列量子效率為60%;GaAlAs/GaAs量子阱紅外焦平面陣列發(fā)展到了今天的640×480元特大陣列,工作溫度已接近或達(dá)到77K,截止波長長達(dá)14μm~16μm,如噴氣式推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室的640×480元GaAs/AlxGa1-xAs陣列,工作溫度70K,NEΔT為43mk,NEΔT不均勻性為1.4%,已報(bào)導(dǎo)了8~9μm和14~15μm雙色640×486元陣列攝像機(jī),這種陣列的工作溫度仍需提高到77K以上方可在系統(tǒng)應(yīng)用方面獲得大量應(yīng)用的能力;非致冷的紅外焦平面陣列技術(shù)是長波紅外焦平面陣列技術(shù)發(fā)展的重要方向之一,近幾年在技術(shù)上取得了突破,投入批量生產(chǎn),正在加緊推廣應(yīng)用。主要材料有VOx、Ti金屬、硅、多晶硅、非晶硅、熱釋電和熱釋電-鐵電材料幾種,有熱敏電阻微測輻射熱計(jì)和薄膜熱釋電與熱電堆幾種陣列,目前已進(jìn)入系統(tǒng)應(yīng)用的陣列為320×240元陣列,NETD通常優(yōu)于0.1K,最佳性能為0.01K~0.005K(即10 mk~5mk),洛克希德馬丁等公司已研制出640×480元的最大陣列。薩爾洛夫公司采用Si3N4作絕緣層的陣列設(shè)計(jì),NETD可達(dá)0.005K,使用SiC時(shí)為0.01k 

 1.3 高密度小像元尺寸

  大型或特大型高密度集成,特別是如100萬和100萬元以上探測器元集成焦平面陣列要求高精度的超大規(guī)模集成電路加工技術(shù)(如亞微米)和微機(jī)械加工技術(shù),焦平面陣列技術(shù)的發(fā)展很大程度上取決于超大規(guī)模集成電路的進(jìn)展。DRAM每個(gè)單元僅要求一個(gè)晶體管,而紅外焦平面陣列讀出電路則需三個(gè)或更多的晶體管,而且其中有一個(gè)必須是低噪聲模擬的,目前DRAM生產(chǎn)水平設(shè)計(jì)規(guī)格為0.25μm,預(yù)生產(chǎn)設(shè)計(jì)規(guī)格已是0.18μm,在這樣先進(jìn)加工條件下,焦平面陣列多路傳輸器和探測器元尺寸都可進(jìn)一步縮小,陣列元數(shù)集成度更高,圖1是焦平面陣列技術(shù)發(fā)展與微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展趨勢關(guān)系。目前的紅外焦平面陣列由于采用亞微米加工技術(shù),像元尺寸大為縮小,實(shí)現(xiàn)了小像元高密度的紅外焦平面集成的進(jìn)一步發(fā)展。由于微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展,PtSi陣列的像元尺寸已小達(dá)20×20μm2和17×17μm2,如柯達(dá)KIR-3900 1968×1968元陣列和日本三菱1040×1040元陣列,HgCdTe陣列已小達(dá)18×18μm,如洛克威爾科學(xué)中心的HAWAⅡ-2 2048×2048元陣列,其設(shè)計(jì)規(guī)格為0.8μm,洛克希德馬丁紅外攝像公司的640×480元非致冷紅外焦平面陣列的像元尺寸縮小為28×28μm2,雷聲和噴氣式推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室的8~9μm和14~15μm波段工作的雙色GaAlAs/GaAs量子阱陣列像元尺寸小達(dá)25~25μm。字串8

  
1.4 多色工作

  隨著紅外焦平面陣列制作技術(shù)的迅速進(jìn)展,由于許多實(shí)際應(yīng)用的需要,近期在雙色或多色紅外焦平面陣列技術(shù)發(fā)展方面取得了顯著的進(jìn)展,如美國加州理工學(xué)院噴氣式推進(jìn)實(shí)驗(yàn)室空間微電子中心、雷聲先進(jìn)紅外中心和空軍研究實(shí)驗(yàn)室最近研制出的8~9μm和14~15μm的雙色640×486元GaAs/AlGaAs量子阱紅外焦平面陣列及其攝像機(jī),雷聲、美國陸軍研究NASA Gooddard航天飛行中心和洛克威爾科學(xué)中心共同研制的11.2μm和16.2μm截止波長的256×256元GaAs/GaAlAs量子阱紅外焦平面陣列,這些機(jī)構(gòu)都是在加緊發(fā)展這種二色和多色焦平面陣列,都是在原來單色焦平面陣列取得極大進(jìn)展的基礎(chǔ)上迅速地研制出了這種雙色陣列。但這種技術(shù)目前的工作溫度尚不到77K,同時(shí)探測器像元要求二種工作電壓,長波敏感區(qū)需極高的偏壓(>8V)實(shí)現(xiàn)長波紅外探測,雖然電壓可調(diào),但不能同時(shí)提供二個(gè)波段的數(shù)據(jù)。

2 未來的發(fā)展趨勢

  上面已敘述了進(jìn)入二十一世紀(jì)以來紅外焦平面技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀與趨勢,2010年時(shí)的紅外焦平面陣列技術(shù)發(fā)展將是人們十分關(guān)注的課題,那么2010年時(shí)紅外焦平面陣列技術(shù)的發(fā)展將是什么結(jié)果呢?

目前先進(jìn)的紅外焦平面陣列技術(shù)正處在從第二代向第三代更為先進(jìn)的陣列技術(shù)發(fā)展的轉(zhuǎn)變時(shí)期。各有關(guān)公司廠家著眼于2010年市場需求,正在加緊確定第三代紅外焦平面陣列技術(shù)的概念,目前各有關(guān)公司和廠家機(jī)構(gòu)的注意力已轉(zhuǎn)向第三代紅外焦平面陣列傳感器的發(fā)展。

  第三代紅外焦平面陣列技術(shù)要滿足以下幾種要求:

  ·焦平面上探測器像元集成度為≥106元,陣列格式≥1K×1K,至少雙色工作,

  ·高的工作溫度,以便實(shí)現(xiàn)低功耗和小型輕量化的系統(tǒng)應(yīng)用,

  ·非致冷工作紅外焦平面陣列傳感器的性能達(dá)到或接近目前第二代致冷工作紅外焦平面陣列傳感器的水平,

  ·必須是極低成本的微型傳感器,甚至是一次性應(yīng)用的傳感器。

  第三代紅外焦平面陣列傳感器有下列三種:即:

 ?。?)大型多色高溫工作的紅外焦平面陣列,探測器像元集成度≥106元,陣列格式1000×1000,1000×2000,和4096×4096元,像元尺寸18×18μm2,目前芯片尺寸22×22mm2,未來的芯片應(yīng)更大,高的量子效率,能存儲和利用探測器轉(zhuǎn)換所有的光電子,自適應(yīng)幀速(480Hz),雙色或多色工作,使用斯特林或熱電溫差電致冷器,工作在120~180K,光響應(yīng)不均勻≤0.05%,NETD≤50mk(f/1.8),結(jié)構(gòu)上單片或混合集成,可以是三維的。字串5

 ?。?)非致冷紅外焦平面陣列,無須溫度穩(wěn)定或致冷,用于分布孔徑設(shè)計(jì),重量僅1盎司,30mW功率,焦平面探測器元集成度≥106元,陣列格式1000×1000元,像元尺寸為25μm ×25μm,NETD<10mK(f/1),或60mK(f/2.5),低成本、低功耗、中等性能,用于分布孔徑設(shè)計(jì)中獲取實(shí)用信息。

  (3)非致冷工作的微型傳感器,焦平面探測器像元集成度僅160×120元~320×240元,像元尺寸50μm ×50μm~25μm ×25μm,NETD<50mK(f/1.8),輸入功率10mW以下,重量1盎司,尺寸<2立方英寸,低成本。
#p#分頁標(biāo)題#e#
  最終的第三代紅外焦平面陣列將是極低成本的微型傳感器,將占領(lǐng)整個(gè)紅外市場,其未來的應(yīng)用將是無人操作的一次性應(yīng)用傳感器,如微型無人駕駛航空飛行器,頭盔安裝式紅外攝像機(jī)和微型機(jī)器人等。

結(jié)論

  進(jìn)入二十一世紀(jì),紅外焦平面陣列技術(shù)發(fā)展已取得了舉世矚目的成就,已從第一代線陣列發(fā)展到了今天的二維TDI和大型凝視焦平面陣列,目前正在向焦平面探測器元高集成度(≥106元)的高密度、小像元(25μm ×25μm~18μm ×18μm)、高性能、多色和低成本的方向發(fā)展;非致冷紅外焦平面陣列技術(shù)近幾年取得的突破為紅外焦平面陣列技術(shù)開拓了更加廣闊應(yīng)用領(lǐng)域,市場急劇擴(kuò)大,這種焦平面陣列是未來發(fā)展低成本紅外焦平面陣列的重要途徑;目前的紅外焦平面陣列性能和成品率已大幅度提高,已具有一定規(guī)模的生產(chǎn)能力,應(yīng)用領(lǐng)域正期待著這一能力的大幅度提高。顯然,目前的紅外焦平面陣列技術(shù)發(fā)展正處在向第三代陣列技術(shù)發(fā)展的轉(zhuǎn)折時(shí)期,各有關(guān)公司廠家機(jī)構(gòu)正在研究確定2010年前第三代紅外焦平面陣列的概念。預(yù)期這一技術(shù)的發(fā)展將會(huì)進(jìn)入新的發(fā)展時(shí)期。

 

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