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導(dǎo)電玻璃是指透明導(dǎo)電氧化物，如氧化銦錫ITO、摻雜氟的SnO2 FTO、氧化鋅ZnO、氧化鎳NiO、納米銀等，部分為銅、鋁、金等材料，以玻璃為基材，通過磁控濺射等方式將導(dǎo)電材料生長(zhǎng)在玻璃上的產(chǎn)品，常用于觸摸屏、光伏太陽能電池、戶外顯示、航空航天等諸多領(lǐng)域當(dāng)中。

導(dǎo)電玻璃在產(chǎn)品成型之前需要對(duì)其進(jìn)行刻蝕加工，形成電路圖，光伏行業(yè)主要是劃線，做成一個(gè)個(gè)小單元的電極，增大電壓，無論哪一個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域，都需要對(duì)其進(jìn)行刻蝕加工。目前刻蝕工藝主要分為激光刻蝕、等離子刻蝕、化學(xué)刻蝕以及機(jī)械劃線等幾種方式，武漢元祿光電為大家介紹幾種刻蝕的方法、優(yōu)缺點(diǎn)以及重點(diǎn)介紹激光刻蝕機(jī)的選型。

化學(xué)刻蝕：優(yōu)點(diǎn)是加工速度快，一次成型，適合大面積加工；缺點(diǎn)是添加劑具有毒性，并且具有一定的污染性，操作流程相對(duì)復(fù)雜，對(duì)掩膜版要求高，不具備超精密微納結(jié)構(gòu)的加工能力。

等離子刻蝕：超細(xì)微精密刻蝕，刻蝕線寬達(dá)到納米級(jí)，精度高；缺點(diǎn)是成本高，對(duì)使用環(huán)境等諸多要素都有極高要求。

機(jī)械劃線：主要優(yōu)勢(shì)是成本低廉；缺點(diǎn)也顯而易見，對(duì)基材的損傷、線寬控制、精度控制、效果控制都不如其他加工，早期常應(yīng)用于光伏太陽能劃線。

激光刻蝕：分為干法刻蝕和黃光曝光兩種，黃光曝光的優(yōu)勢(shì)在于一次成型，精度高、刻蝕效果好、精細(xì)，缺點(diǎn)是成本相對(duì)較高，具備污染性。干法刻蝕是指激光直接入射在材料表面無需任何添加劑，通過高能量的光束汽化材料，形成線路或斷路，相比較于其他幾種工藝，在導(dǎo)電玻璃行業(yè)中可謂星光熠熠，處處優(yōu)勢(shì)明顯，也是目前整個(gè)行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)最主流的機(jī)器。

激光刻蝕機(jī)

激光刻蝕機(jī)的主要優(yōu)點(diǎn)是操作簡(jiǎn)便，導(dǎo)入CAD或Gerber文件，通過振鏡偏轉(zhuǎn)、配合XY軸移動(dòng)形成大面積的刻蝕成型，無耗材、無污染，刻蝕干凈，最小線寬可達(dá)到亞納米級(jí)別，目前武漢元祿光電普通振鏡掃描方式，導(dǎo)電ITO玻璃最小線寬在3微米，而在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)最小可達(dá)700nm線寬，特別適合于導(dǎo)電玻璃微納激光刻蝕。

激光刻蝕機(jī)用于導(dǎo)電玻璃行業(yè)中主要激光波段為1064/532/355nm納秒、皮秒激光刻蝕機(jī)以及1030/515nm/355nm波段的飛秒激光刻蝕機(jī)，根據(jù)不同的應(yīng)用場(chǎng)景需求，配置不同的激光器，并且會(huì)根據(jù)實(shí)際需求選擇不同的光學(xué)器件，如掃描幅面、擴(kuò)束倍數(shù)、加工面積等條件。

一般來說，激光刻蝕機(jī)的參考選型主要參考因素是導(dǎo)電玻璃的材料、幅寬、線寬、線間距要求，至于說材料的厚度一般都是在幾百微米范圍內(nèi)，有的甚至只有幾個(gè)納米，對(duì)于激光刻蝕機(jī)來說不難加工，主要還是看熱影響范圍區(qū)域，加工后的線寬、線間距以及線性直線度、加工精度以及誤差等影響。

因此確定激光刻蝕機(jī)的選擇需要明確以上幾點(diǎn)，根據(jù)需求推薦對(duì)應(yīng)的機(jī)器類型，一般來說紅外1064納秒激光刻蝕機(jī)主要適用于20微米以上線寬的加工要求，飛秒激光刻蝕機(jī)主要適用于多層材料的導(dǎo)電玻璃激光刻蝕，如特殊需求仍需以實(shí)驗(yàn)試樣為準(zhǔn)。