中國微米納米技術(shù)學(xué)會消息顯示,近日,中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所張子旸研究員與國家納米中心劉前研究員合作,在Nano Letters上發(fā)表了研究論文,報道了一種他們開發(fā)的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法。
據(jù)悉,研究團(tuán)隊設(shè)計開發(fā)了一種新型三層堆疊薄膜結(jié)構(gòu)。在無機(jī)鈦膜光刻膠上,采用雙激光束交疊技術(shù),通過精確控制能量密度及步長,實現(xiàn)了1/55衍射極限的突破,達(dá)到了最小5 nm的特征線寬。
圖片來源:中國微米納米技術(shù)學(xué)會
此外,研究團(tuán)隊利用這種超分辨的激光直寫技術(shù),實現(xiàn)了納米狹縫電極陣列結(jié)構(gòu)的大規(guī)模制備。同時,該團(tuán)隊還利用發(fā)展的新技術(shù)制備出了納米狹縫電極為基本結(jié)構(gòu)的多維度可調(diào)的電控納米SERS傳感器。
值得一提的是,研究團(tuán)隊所開發(fā)的具有完全知識產(chǎn)權(quán)的激光直寫設(shè)備,利用了激光與物質(zhì)的非線性相互作用來提高加工分辨率,其有別于傳統(tǒng)的縮短激光波長或增大數(shù)值孔徑的技術(shù)路徑;并打破了傳統(tǒng)激光直寫技術(shù)中受體材料為有機(jī)光刻膠的限制,可使用多種受體材料,極大地擴(kuò)展了激光直寫的應(yīng)用場景。
目前,該工作得到了國家重點研究計劃項目、國家自然科學(xué)基金、Eu-FP7項目、中國博士后科學(xué)基金的支持。
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