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極端光基礎(chǔ)設(shè)施阿秒光脈沖源擬合作構(gòu)建一個稱之為SYLOS3的激光系統(tǒng)，可以產(chǎn)生超過15 TW 的峰值功率。

2020年12月17日，極端光基礎(chǔ)設(shè)施阿秒光脈沖源（The Extreme Light Infrastructure Attosecond Light Pulse Source (ELI-ALPS)）設(shè)施，一個歐洲的研究中心致力于為國際研究社區(qū)提供性能卓越的激光脈沖和二次光源，并且，一個光纖激光器制造商 EKSPLA和飛秒激光光源的提供商提供光轉(zhuǎn)換的公司UAB形成的一個聯(lián)合企業(yè)，合作開展構(gòu)建一個稱之為SYLOS3的激光系統(tǒng)。這一激光系統(tǒng)大約需要花費600萬，這一激光設(shè)施大約在2022年可以實現(xiàn)激光發(fā)射。這一激光系統(tǒng)將安裝在 ELI-ALPS在位于匈牙利的總部。

這一激光系統(tǒng)將能夠在1 KHz的重復(fù)頻率和不到8飛秒的脈沖內(nèi)發(fā)射超過15 TW 的峰值功率。SYLOS3 將會運行的峰值功率是SYLOS2A系統(tǒng)的3倍還要高，目前SYLOS2A系統(tǒng)已經(jīng)安裝在ELI-ALPS的總部。

SYLOS激光系統(tǒng)已經(jīng)安裝在ELI-ALPS 的實驗中。ELI-ALPS SYLOS3激光系統(tǒng)計劃通過氣體和表面高階諧波的產(chǎn)生來生成相干X射線，與此同時電子加速以滿足不同的實驗需求，dám Brzsnyi說到，他是ELI-ALPS激光光源分部的頭。

SYLOS激光系統(tǒng)已經(jīng)安裝在ELI-ALPS 的實驗中

眾多應(yīng)用中的一個應(yīng)用是用于阿秒計量學(xué)的孤立的阿秒脈沖。SYLOS激光中運行的光線設(shè)計成適合用戶的使用和需要高穩(wěn)定性的運行在高峰時間的場合，這在設(shè)計和發(fā)展SYLOS3系統(tǒng)的時候是需要優(yōu)先考慮這些任務(wù)的。

由于罕見的巨大的極端紫外（ EUV）X射線能量，這一系統(tǒng)額外的制造出非線性EUV和X射線科學(xué)的可能性。與此同時，如4D影像和工業(yè)，生物學(xué)和醫(yī)療場合的應(yīng)用。

SYLOS3 激光系統(tǒng)將在基于光參量啁啾脈沖放大（Optical Parametric Chirped-Pulse Amplification (OPCPA)）技術(shù)，一個可以產(chǎn)生高強度輻射的辦法。OPCPA，維爾紐斯大學(xué)所發(fā)展的技術(shù)，發(fā)布了高的泵浦效率，并提高了對比度和帶寬，同傳統(tǒng)的Ti:sapphire激光為基礎(chǔ)的飛秒技術(shù)相比較的話。這些因數(shù)輸送了增加了控制產(chǎn)生發(fā)射的程度，依據(jù)EKSPLA和光轉(zhuǎn)換發(fā)布的媒體的結(jié)果。

工程人員將會從零開始來設(shè)計和構(gòu)建系統(tǒng)，所有的制造將會在立陶宛維爾紐斯完成