中頻磁控+多弧離子濺射鍍膜機
該設(shè)備具有:結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于切削刀具如齒輪滾刀,插刀,銑刀,鉆頭等表面沉積超硬涂層,也可用于鐘表,眼鏡架,手機殼、鎖具,潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層,本設(shè)備可實現(xiàn)一機多用沉積多種膜層,膜層細膩,有純鈦( Ti ) 氮化鈦( TiN ) 氧化鈦( TiO ) 純鋯( Zr ) 氮化鋯( ZrN ) 碳化鈦( TiC ) 純鉻( Cr ) 氮化鉻( CrN ) 碳氮化鈦( TiCN ) 氮化鋁鈦( TiAlN ), PVD 鍍膜膜層目前常見的顏色主要有: 深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色, 藍色等。亮度好,飽滿度好
型號 HY-1200 HY-1400 HY-1600 HY-1800 真空室尺寸 Φ 1200Χ1600mm Φ 1200Χ2000mm Φ 1600Χ2000 mm Φ 1800Χ2000 mm 電源類型 高頻逆變弧電源,大功率中頻電源 真空室結(jié)構(gòu) 立式單開門、后置抽氣系統(tǒng) 極限真空 6.0Χ10-4pa 真空系統(tǒng) 擴散泵 +羅茨泵+機械泵+維持泵 抽氣時間 從大氣抽至 5Χ10-2Pa小于或者等于5分鐘 工件運動方式 公自轉(zhuǎn) /變頻調(diào)速 控制方式 手動 /自動一體化式,觸摸屏+PLC 備注 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做
本公司可以根據(jù)用戶要求設(shè)計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進行設(shè)計配置。
參數(shù)說明:
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