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鍍膜

中頻磁控+多弧離子濺射鍍膜機

星之球科技 來源:華宇電鍍設(shè)備有限公司2011-07-28 我要評論(0 )   

中頻磁控+多弧離子濺射鍍膜機 該設(shè)備具有:結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于切削刀具如...

中頻磁控+多弧離子濺射鍍膜機

該設(shè)備具有:結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)效率高、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于切削刀具如齒輪滾刀,插刀,銑刀,鉆頭等表面沉積超硬涂層,也可用于鐘表,眼鏡架,手機殼、鎖具,潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層,本設(shè)備可實現(xiàn)一機多用沉積多種膜層,膜層細膩,有純鈦( Ti ) 氮化鈦( TiN ) 氧化鈦( TiO ) 純鋯( Zr ) 氮化鋯( ZrN ) 碳化鈦( TiC ) 純鉻( Cr ) 氮化鉻( CrN ) 碳氮化鈦( TiCN ) 氮化鋁鈦( TiAlN ), PVD 鍍膜膜層目前常見的顏色主要有: 深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色, 藍色等。亮度好,飽滿度好
本公司可以根據(jù)用戶要求設(shè)計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進行設(shè)計配置。

參數(shù)說明:

型號

HY-1200

HY-1400

HY-1600

HY-1800

真空室尺寸

Φ 1200Χ1600mm

Φ 1200Χ2000mm

Φ 1600Χ2000 mm

Φ 1800Χ2000 mm

 

 

電源類型

高頻逆變弧電源,大功率中頻電源

真空室結(jié)構(gòu)

立式單開門、后置抽氣系統(tǒng)

極限真空

6.0Χ10-4pa

真空系統(tǒng)

擴散泵 +羅茨泵+機械泵+維持泵

抽氣時間

從大氣抽至 5Χ10-2Pa小于或者等于5分鐘

工件運動方式

公自轉(zhuǎn) /變頻調(diào)速

控制方式

手動 /自動一體化式,觸摸屏+PLC

備注

真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做

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