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氣體

四氟化碳(CF4)的合成與開發(fā)

星之球激光 來源:世源氣體2013-05-31 我要評論(0 )   

四氟化碳(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子體蝕刻氣體,廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)...

       四氟化碳(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子體蝕刻氣體,廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強,CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點和發(fā)展趨勢是超純、超凈、多品種、多規(guī)模,各國為推動本國微電子工業(yè)的發(fā)展,越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言,CF4以其相對低廉的價格長期占據(jù)著蝕刻氣體的市場,因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?/p> 

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