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量子級聯(lián)激光器及其應(yīng)用的研究進展

來源:MEMS、紅外芯聞2021-12-03 我要評論(0 )   

量子級聯(lián)激光器(QCL)是一種基于量子阱中子帶間電子躍遷的半導(dǎo)體激光器,光子能量取決于量子阱的厚度而非材料基本帶隙的寬度,因此對材料層厚度進行量子裁剪即可調(diào)節(jié)激...

量子級聯(lián)激光器(QCL)是一種基于量子阱中子帶間電子躍遷的半導(dǎo)體激光器,光子能量取決于量子阱的厚度而非材料基本帶隙的寬度,因此對材料層厚度進行量子裁剪即可調(diào)節(jié)激光輸出波長。QCL結(jié)構(gòu)包含多層量子阱,每層量子阱都包括注入?yún)^(qū)和有源區(qū),由于量子隧穿效應(yīng),電子躍遷過程中會從一個周期的注入?yún)^(qū)隧穿到下一個周期的有源區(qū),然后高能級的電子到達低能級,同時釋放出光子。在整個過程中只有電子參與,所以QCL具有單極性,輸出激光是單向偏振的。


QCL的發(fā)展除了體現(xiàn)在工作溫度適應(yīng)性上,還包括波長/波段的細分和擴展。材料技術(shù)和工藝的進步推動了QCL的發(fā)展,隨著器件在室溫下運行的輸出功率越來越高、單頻特性越來越好、輸出波長不斷拓展,QCL在很多領(lǐng)域中的應(yīng)用也越來越廣泛,其面臨的不斷提高的技術(shù)指標要求也牽引著QCL技術(shù)的進步。


據(jù)麥姆斯咨詢報道,近期,空軍裝備部駐北京地區(qū)軍事代表局駐天津地區(qū)第三軍事代表室鄧凱等人在《光電技術(shù)應(yīng)用》期刊上發(fā)表了以“量子級聯(lián)激光器及其應(yīng)用的研究進展”為主題的綜述論文。文章回顧了QCL的發(fā)展歷史,以中紅外、長波紅外和太赫茲等典型波段的QCL為例描述了材料和器件技術(shù)的研究進展,介紹了QCL在物質(zhì)成分探測、自由空間光通信、定向紅外對抗等領(lǐng)域的應(yīng)用研究情況,歸納了QCL技術(shù)的發(fā)展趨勢。


目前國內(nèi)外的很多研究機構(gòu)在QCL的研究上投入了大量的資源,推動了QCL技術(shù)的長足發(fā)展。從激光發(fā)射譜的角度,QCL可分為中紅外波段、長波紅外波段和太赫茲波段。


世界上第一只QCL即工作在中紅外波段,近年來MIR-QCL的發(fā)展最為迅速,有力地推動了QCL的商業(yè)化。在MIR-QCL的研究方面,國內(nèi)外研究機構(gòu)近年來取得了豐碩的研究成果,其中國外機構(gòu)中以美國西北大學(xué)為領(lǐng)頭羊,,俄羅斯的約飛研究所等機構(gòu)的研究進展也較快;國內(nèi)機構(gòu)中,中科院半導(dǎo)體研究所在MIR-QCL的研究上成果豐碩。


LWIR-QCL的輸出波長在7μm以上、太赫茲波段以下,與MIR-QCL相比,LWIR-QCL的插頭效率和輸出功率更低,導(dǎo)致其實用化程度更低一些。在LWIR-QCL的研究上,國外和國內(nèi)處于領(lǐng)先地位的是美國西北大學(xué)和中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所,俄羅斯約飛研究所等機構(gòu)處于第二梯隊。


太赫茲波段一般指頻率為100GHz到10THz、波長在3mm到30μm的電磁波,目前已在THz-QCL器件上實現(xiàn)的頻率范圍大致為0.8~5.6THz。相對于其他的太赫茲源產(chǎn)生方式,QCL的優(yōu)勢在于體積更小、能耗更低、可調(diào)諧等。與中、長波紅外QCL一樣,工作溫度和輸出功率是評估QCL光電性能的主要標準。在THz-QCL的研究上,美國西北大學(xué)和日本濱松公司的技術(shù)水平相對較高,此外意大利等國家的科研機構(gòu)也取得了很多研究成果。


日本濱松公司非線性太赫茲QCL的分布式


隨著QCL材料和器件技術(shù)的發(fā)展,國內(nèi)外研究機構(gòu)針對QCL在物質(zhì)成分探測、環(huán)境科學(xué)、醫(yī)學(xué)領(lǐng)域、自由空間光通信、定向紅外對抗等領(lǐng)域的應(yīng)用上進行了大量的研究,在部分細分領(lǐng)域已經(jīng)實現(xiàn)了QCL的實用化。


西北大學(xué)中紅外自由空間光通信系統(tǒng)示意圖

QCL技術(shù)應(yīng)用方向與發(fā)展趨勢表


QCL是紅外激光領(lǐng)域中的一個重要的研究方向,因其可在中紅外波段、長波紅外波段和太赫茲波段工作的特性,在物質(zhì)探測、自由空間光通信和定向紅外對抗等軍、民領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景,但QCL還需要繼續(xù)在單管輸出功率等方向繼續(xù)提升。通過對該技術(shù)和應(yīng)用的梳理,歸納其技術(shù)發(fā)展趨勢,為相關(guān)領(lǐng)域的研究人員提供參考。



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