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11月，中科院上海光學精密機械研究所周常河研究員課題組成功研制出多路激光直寫裝置。該裝置采用405nm的藍光激光光源，尼康0.9數(shù)值孔徑的透鏡，以及自動聚焦系統(tǒng)，實現(xiàn)了25路高精度并行激光直寫，刻寫光斑的線寬小于600nm。相比于傳統(tǒng)激光直寫系統(tǒng)，該裝置在刻寫速度和效率方面有了很大的提高，幾十倍地縮短了激光直寫時間，可以快速制作大尺寸、高精度衍射光學元件。

激光束直寫技術是一種無需掩膜的光刻技術，基本工作原理是由計算機控制高精度激光束或樣品掃描，在光刻膠上或光敏材料上刻寫出掩膜圖形。傳統(tǒng)的激光直寫裝置由于受單路激光刻寫的限制，效率低，時間長，只能應用于中、小尺寸光學器件的生產(chǎn)和制備。該裝置的成功研制，有可能為中國的半導體制造及大尺寸微納光學加工領域提供一種高性能、低成本的技術手段，同時，也將推動我國在納米光刻，微納光學制造等領域的進步，對于研制我國大科學工程、裝置以及天文、航天、航空、印刷等行業(yè)所需要的大尺寸光學元件，起到積極的推動作用。