隨著激光技術(shù)的發(fā)展，將激光技術(shù)直接應(yīng)用于微米級元件的制作，價格低廉且速度更快。ProtoLaser LDI是一款無需掩模的激光直接成像設(shè)備，一束激光即可直接完成感光膠的曝光。操作簡單，內(nèi)置承載裝置，將樣品放入即可直接制作。
功能強(qiáng)大的桌面型設(shè)備:LPKF ProtoLaser LDI激光直接成像設(shè)備可以在感光膠上制作微米級微結(jié)構(gòu)
LPKF與斯洛文尼亞公司Aresis以及盧布爾雅那大學(xué)共同研發(fā)了新一代低成本快速制作微結(jié)構(gòu)設(shè)備。紫外激光直寫光刻設(shè)備(LDI)在光致抗蝕基材上直寫圖形，比傳統(tǒng)掩膜光刻工藝優(yōu)勢更加明顯。
LPKF LDI對于樣品的快速制作極大的推動了微流體通道以及微結(jié)構(gòu)領(lǐng)域的研究和開發(fā)。實(shí)驗(yàn)室生物芯片制作設(shè)備很大程度上促進(jìn)了芯片小型化的制作過程并且減少了液體采樣量，避免樣本量的浪費(fèi)。LDI設(shè)備為醫(yī)學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)和物理學(xué)等領(lǐng)域的研發(fā)帶來了諸多可能性。制成的樣品可應(yīng)用于血液細(xì)胞分析，醫(yī)療診斷和篩查、傳感器(化學(xué)、生物、環(huán)境和武器技術(shù);汽車工程),化學(xué)合成和物理實(shí)驗(yàn)。
微流體通道的制作
在從10納米級到100微米級的微流控的生產(chǎn)制造中主要有三種加工工藝。
傳統(tǒng)光刻的方法主要適合于大規(guī)模的生產(chǎn)。對于修改頻率高的樣品設(shè)計或小批量的制作,傳統(tǒng)光刻流程就太過復(fù)雜了。
在電子束光刻中，電子束被電磁場聚集成微細(xì)束照到電子抗蝕劑(感光膠)上，從而形成微結(jié)構(gòu)。電子束分辨率20-50nm。然而這個過程需要特殊抗蝕基材、導(dǎo)電基板、高真空，且花費(fèi)時間很長。LPKF ProtoLaser LDI則具有可快速掃描的激光束，無掩膜激光直寫光刻技術(shù)制作微結(jié)構(gòu)，加工過程快速、尺寸精準(zhǔn)、邊緣平滑、拐角陡直。
SU8負(fù)性感光膠上制作幾何尺寸精準(zhǔn)的柱形微結(jié)構(gòu)
LDI：快速、柔性、精準(zhǔn)
LPKF ProtoLaser LDI可用于制作微流體通道，MEMS、BioMEMS、集成光學(xué)、微結(jié)構(gòu)光子實(shí)驗(yàn)。在精度方面,LDI優(yōu)于所有類似的需要掩膜的光刻設(shè)備。投資成本遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于電子束光刻以及許多掩模對準(zhǔn)裝置。即使寬度小于1μm的網(wǎng)格LDI也能夠輕松應(yīng)對。
產(chǎn)品其他特點(diǎn)：激光波長為375nm TEM00紫外激光光束直寫，這也可以用于傳統(tǒng)的光刻工藝。軟件可控的激光光斑尺寸(1 - 3 μm)可以用來滿足不同的精度需求，集成的一體式攝像頭靶標(biāo)識別對基材進(jìn)行精準(zhǔn)對位，自動校準(zhǔn)，也能夠?qū)Τ叽巛^大的樣品進(jìn)行制作和拼接。
ProtoLaser LDI的產(chǎn)品在2014年10月26-10月30日首次在美國圣安東尼奧MicroTAS上進(jìn)行展示。
供稿：LPKF公司
供稿：LPKF公司
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