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眾所周知，目前嚴(yán)重制約國產(chǎn)芯片制造技術(shù)進(jìn)步的設(shè)備，就是光刻機(jī)了，因?yàn)槟壳叭蜃钕冗M(jìn)的光刻機(jī)是ASML的EUV光刻機(jī)，用于7nm及以下的芯片生產(chǎn)，僅ASML能夠生產(chǎn)，卻不能賣給中國大陸。

而國內(nèi)最強(qiáng)的上海微電子生產(chǎn)的光刻機(jī)，還在90nm，業(yè)內(nèi)人士表示，我們與ASML的差距可能得有10年以上。

也正因?yàn)橘I不到EUV光刻機(jī)，所以我們目前的芯片制造技術(shù)還停留在14nm，所以發(fā)展自己的光刻機(jī)，成為了當(dāng)前芯片市場的重中之重。

而近日，傳出一則消息，那就是華為也開始布局光刻機(jī)了，華為旗下的專業(yè)投資半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的哈勃投資，正式入股北京科益虹源光電技術(shù)有限公司。

所占股份大約為4.7619%，而投資金額大約在1000萬元左右，目前科益虹源的注冊資金變成了20160萬元。

科益虹源是什么來頭？它是國內(nèi)唯一，也是全球第三家具備193nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù)研究和產(chǎn)品化的公司。

在2018年的時(shí)候，科益虹源自主設(shè)計(jì)開發(fā)的國內(nèi)首臺高能準(zhǔn)分子激光器順利出貨，目前已經(jīng)是國內(nèi)光刻機(jī)廠商上海微電子的光源系統(tǒng)供應(yīng)商。

此外，科益虹源還承擔(dān)了“02重大專項(xiàng)浸沒光刻光源研發(fā)”、“02重大專項(xiàng)核心零部件國產(chǎn)化能力建設(shè)”、“02重大專項(xiàng)集成電路晶圓缺陷檢測光源”等國家專項(xiàng)，可以說是目前在光刻機(jī)光源這個(gè)核心技術(shù)上，最厲害的國產(chǎn)廠商了。

當(dāng)然光刻機(jī)中的核心部件特別多，比如ASML的EUV光刻機(jī)，有10多萬個(gè)零件，光源之只是其中的一部分，但如果要攻克光刻機(jī)，光源是必不可少的部分，也是必須要攻克的部分，是核心中的核心。

所以華為哈勃投資入股科益虹源，很明顯，是為了加碼布局光刻機(jī)領(lǐng)域的研發(fā)，畢竟華為目前非常需要國產(chǎn)芯片制造技術(shù)能夠崛起。

所以爭取國產(chǎn)光刻機(jī)，早日能夠突破，追上甚至超過ASML的水平，那么國產(chǎn)芯片制造技術(shù)，就會有長足的進(jìn)步。