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圣地亞哥，2018年8月27日電 /美通社/ - 用于半導(dǎo)體制造的準(zhǔn)分子激光器的領(lǐng)先制造商Cymer今天宣布首次客戶安裝其XLR 860ix光源，預(yù)計(jì)將用于芯片生產(chǎn)在高級邏輯和內(nèi)存節(jié)點(diǎn)。

XLR 860ix是一款基于氬氟化物準(zhǔn)分子激光器的深紫外（DUV）光源。第一個(gè)客戶安裝在本月完成，XLR 860ix與ASML的最新光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXT：2000i配對，該光源系統(tǒng)今年早些時(shí)候獲得了資格。

“XLR 860ix通過改進(jìn)高速控制和重新設(shè)計(jì)的板載帶寬測量，與前一代產(chǎn)品相比，將帶寬變化減少了兩倍。這是一項(xiàng)重要成就，因?yàn)檫@些變化會導(dǎo)致關(guān)鍵尺寸誤差（CD）均勻性反過來影響圖像質(zhì)量和最終制造產(chǎn)量。我們的客戶使用XLR 860ix的早期版本驗(yàn)證了光譜穩(wěn)定性的改善，這使我們相信這種光源將會有助于提高用于生產(chǎn)先進(jìn)集成電路的CD均勻性，“Cymer產(chǎn)品營銷副總裁Patrick O'Keeffe說。

在XLR860ix全面發(fā)布之前，Cymer通過升級現(xiàn)有光源，為早期訪問計(jì)劃的客戶提供了關(guān)鍵技術(shù)。已經(jīng)完成了四次這樣的升級，計(jì)劃在今年年底之前升級另外七個(gè)來源。共有七位客戶參與了早期訪問計(jì)劃。為了滿足客戶的強(qiáng)烈需求，Cymer已迅速將其生產(chǎn)能力轉(zhuǎn)移到XLR 860ix型號，用于所有未來的ArF沉浸式發(fā)貨。

“除了早期訪問計(jì)劃，我們還提供了XLR 860ix的一項(xiàng)關(guān)鍵新技術(shù)，作為以前光源模型的升級。這種升級延長了光學(xué)器件和腔室的使用壽命，增加了時(shí)間間隔。維修間隔為33％，從而使我們的客戶能夠更好地利用他們的光刻系統(tǒng)，每年為每個(gè)工具提供數(shù)千個(gè)額外的晶圓。我們的客戶積極利用這一升級，在過去一年內(nèi)完成了400多次升級。大多數(shù)升級后的系統(tǒng)超出了目標(biāo)服務(wù)間隔，“O'Keeffe說。