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       韓國(guó)三星電子公司3月22日宣布，將于中國(guó)設(shè)立的NAND型閃存新工廠將使用電路線寬為10納米級(jí)別的技術(shù)實(shí)施量產(chǎn)。10納米級(jí)技術(shù)是韓國(guó)工廠即將于今年上半年投入使用的最尖端技術(shù)，同時(shí)三星還正在強(qiáng)化將中國(guó)作為重要零件產(chǎn)地的體制。新工廠計(jì)劃在陜西省西安市建設(shè)。新工廠將在年內(nèi)開(kāi)工建設(shè)，在明年底投入量產(chǎn)。

　　三星于去年12月向韓國(guó)政府提出了在中國(guó)建設(shè)NAND型閃存工廠的申請(qǐng)，并于今年1月獲得批準(zhǔn)。雖然此前透露的消息是“將使用20納米級(jí)別以下的技術(shù)”，但三星認(rèn)為中國(guó)作為蘋果“iPhone”手機(jī)等數(shù)碼產(chǎn)品組裝基地的重要性日漸增強(qiáng)，有必要采用更尖端的技術(shù)進(jìn)行高效生產(chǎn)。

　　縮小電路線寬后，利用一片硅晶圓制造出的半導(dǎo)體數(shù)量將隨之增加，從而提高生產(chǎn)效率。三星除了將于今年上半年開(kāi)始使用10納米級(jí)技術(shù)在韓國(guó)進(jìn)行量產(chǎn)之外，還計(jì)劃將該技術(shù)運(yùn)用于中國(guó)工廠，其目的是通過(guò)此舉鞏固全球份額冠軍的寶座。