據(jù)美國(guó)媒體報(bào)道，試圖在創(chuàng)新上與半導(dǎo)體行業(yè)保持同步的芯片制造商最近遇到成本問(wèn)題。但I(xiàn)BM的研究人員周四表示，他們突破了重要的技術(shù)瓶頸，采用7納米技術(shù)生產(chǎn)芯片，領(lǐng)先于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。
分析師稱，該公司的芯片原型依賴長(zhǎng)期未開(kāi)發(fā)成功的新生產(chǎn)工具，無(wú)法證明這種新技術(shù)可量產(chǎn)。但這種技術(shù)上的進(jìn)步可幫助IBM及其制造商合作伙伴對(duì)英特爾等對(duì)手形成壓力，同時(shí)也預(yù)示著芯片行業(yè)能繼續(xù)克服在提高速度、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)容量和降低能耗上的障礙。
Envisioneering Group的分析師理查德·達(dá)赫迪（Richard Doherty）表示：“這給了需要強(qiáng)心劑的行業(yè)信心。”IBM稱，需要更多先進(jìn)的半導(dǎo)體才能不斷改進(jìn)主機(jī)電腦和其他服務(wù)器系統(tǒng)。但該公司去年表示，保留生產(chǎn)芯片的工廠費(fèi)用太高，因此與Globalfoundries達(dá)成協(xié)議，支付后者15億美元，轉(zhuǎn)讓在紐約州和佛蒙特州的IBM芯片工廠。
1年前IBM宣布在未來(lái)5年里投資30億美元研發(fā)半導(dǎo)體，主要在阿爾巴尼的紐約州立大學(xué)研發(fā)機(jī)構(gòu)進(jìn)行。在最新的研究中，IBM與該大學(xué)的研究人員和Globalfoundries以及三星電子合作。這些公司組成了Global Platform聯(lián)盟，在10多年里部分依賴這種聯(lián)合開(kāi)發(fā)。
英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人戈登·摩爾曾在50年前提出了摩爾定律，此后半導(dǎo)體公司一直在努力縮小晶體管尺寸。當(dāng)前量產(chǎn)的最先進(jìn)芯片采用14納米技術(shù)。但摩爾定律越來(lái)越難以實(shí)現(xiàn)，即使英特爾也在完善14納米技術(shù)上晚了6個(gè)月?，F(xiàn)在該公司在開(kāi)發(fā)10納米技術(shù)，分析師預(yù)計(jì)在2016年面世。
IBM以前生產(chǎn)的是20納米芯片，現(xiàn)在生產(chǎn)出7納米的測(cè)試芯片。IBM半導(dǎo)體技術(shù)研究副總裁穆克什·凱爾（Mukesh Khare）將這種行動(dòng)描述為“莊嚴(yán)的挑戰(zhàn)和不朽的任務(wù)”。采用7納米技術(shù)的芯片不大可能在幾年內(nèi)商業(yè)發(fā)布，VLSI Research的分析師丹·哈奇森（Dan Hutcheson）表示：“從研發(fā)到生產(chǎn)是行業(yè)面臨的大挑戰(zhàn)。”
但I(xiàn)BM認(rèn)為，其研究工作顯示，投產(chǎn)沒(méi)有根本性的障礙，這種技術(shù)可以使芯片的晶體管數(shù)量從幾十億個(gè)提高到超過(guò)200億個(gè)。還有另一個(gè)選擇是平板印刷技術(shù)，預(yù)計(jì)可引起更大關(guān)注。這技術(shù)是使用攝影過(guò)程確定電路設(shè)計(jì)。多數(shù)平板印刷工具使用激光，但要求多次攝影曝光，提高了制造成本。
而IBM采用被稱為超極紫外線（EUV）的平板印刷技術(shù)制作7納米芯片，使用比當(dāng)前工具波長(zhǎng)短很多的光，避免了多次曝光。
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