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真空輔助薄膜技術產生具有特殊性質的薄膜表面。例如，它被用于美化高層建筑的玻璃和電子元件。

巨大的玻璃外墻是現代高層建筑的一大特色。其設計是為了讓充足的陽光照入建筑物。但是，即使在陽光照射下，房間內也幾乎不會變熱。玻璃上的特殊涂層不僅允許光線進入，還可阻擋高能射線，同時抑制低溫下的熱損失。

納米涂層

這些涂層通過濺射涂覆。這使得載體材料能夠以金屬、氧化物、氮化物和其他化合物層提供。這些化合物層的厚度在微米級，甚至納米級。建筑玻璃使用氧化錫、金、銀和銅材料來防曬和隔熱。其他材料使制造超薄平板顯示屏和觸摸屏成為可能。

濺射在真空室內進行。涂層材料（目標）放置在待涂覆工件（基材）的對面。然后，室內被抽真空，并引入惰性氣體——通常是氬氣。同時，還要施加幾百伏的高壓。

原子"臺球"

在高電壓下，攜帶巨大能量的氬離子開始轟擊目標。像臺球一樣，它們通過激波級聯從涂層材料中釋放原子。釋放出的原子飛到基板上，在那里像凝結在浴室鏡子上的水蒸氣一樣，形成一層薄薄的涂層。

利用磁控濺射中附加的磁場，可以更快地去除靶上的物質，加速涂覆過程。在濺射過程中，真空室的工作壓力不超過0.1毫巴。以這種方式，"物質蒸汽"到達未經檢查的基板，沒有雜質。在這種條件下，即使在一米高的玻璃上，也會形成極薄、均勻，同時極其光滑、致密和粘附的涂層。