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　　在全球低碳經(jīng)濟(jì)與新能源革命的大趨勢(shì)下，光熱發(fā)電極有可能成為我國(guó)未來(lái)份額最大的主導(dǎo)能源。而薄膜太陽(yáng)能電池作為新一代產(chǎn)品，占領(lǐng)的份額會(huì)越來(lái)越大。

　　華工激光一直致力于薄膜太陽(yáng)能電池激光設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)，從承擔(dān)《電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展基金》項(xiàng)目“薄膜太陽(yáng)能電池激光精密切割系統(tǒng)研制與產(chǎn)業(yè)化”開發(fā)出了第一代薄膜太陽(yáng)能刻膜和清邊設(shè)備起，到承擔(dān)《國(guó)家科技支撐計(jì)劃》項(xiàng)目“激光精密微細(xì)加工技術(shù)、裝備研究及工程示范”開發(fā)出了第二代薄膜太陽(yáng)能刻膜和清邊設(shè)備，經(jīng)過(guò)客戶生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的驗(yàn)證，數(shù)次的改良和優(yōu)化后，現(xiàn)在華工激光推出了全新的第三代刻膜和清邊設(shè)備，并且已經(jīng)應(yīng)用到國(guó)內(nèi)主流薄膜電池廠家，而且在臺(tái)灣和日本也形成了批量銷售。

圖1薄膜太陽(yáng)能激光刻膜設(shè)備

　　華工激光的薄膜太陽(yáng)能激光刻膜設(shè)備主要應(yīng)用在非晶硅薄膜電池的透明導(dǎo)電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的激光刻膜，碲化鎘CdTe薄膜電池的膜層刻膜，銅銦鎵硒CIGS薄膜電池金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜的刻膜?！?/p>

　　華工激光采用兩條技術(shù)路線，分光系統(tǒng)和獨(dú)立激光器系統(tǒng)。工作臺(tái)面采用支撐式或者氣浮式。整機(jī)加工速度最大可以達(dá)到1500mm/s, 三線刻膜外沿總寬度可達(dá)到200μm，保證電池板更大的發(fā)電量。擁有專利的吸塵機(jī)構(gòu)，不僅對(duì)激光加工整體部分（全部基板）進(jìn)行吸塵，玻璃基板移動(dòng)時(shí)依然進(jìn)行全面吸塵。針對(duì)激光/光學(xué)部分的溫度漂移，采用壓縮空氣溫度調(diào)節(jié)器來(lái)保證。出現(xiàn)激光光弱的情況，監(jiān)視器功能自動(dòng)運(yùn)行調(diào)節(jié)LD電流，保證出光的穩(wěn)定性。

圖2 薄膜太陽(yáng)能激光清邊設(shè)備

　　華工激光的薄膜太陽(yáng)能激光清邊設(shè)備主要應(yīng)用在薄膜太陽(yáng)能電池的周邊鍍膜的刻線絕緣、清邊。

　　華工激光采用振鏡加龍門的架構(gòu)，激光器·光學(xué)設(shè)備·振鏡頭配有循環(huán)冷卻系統(tǒng)，保證設(shè)備的穩(wěn)定性。激光器配備功率監(jiān)測(cè)，穩(wěn)定輸出功率，可大幅度減少不良產(chǎn)品?；逋ㄟ^(guò)7處定位，同時(shí)其中2處進(jìn)行基板尺寸測(cè)量。測(cè)量精度達(dá)到25μm，基板測(cè)量的數(shù)值經(jīng)過(guò)反饋后進(jìn)行加工。為了有效的吸塵，吸塵管以分割構(gòu)造配置在激光加工點(diǎn)的正下方。（邊4處和角4處）邊4處的吸塵管設(shè)計(jì)為吸塵切換模式，針對(duì)激光加工區(qū)集中吸塵，激光加工時(shí)吸塵管上升，以最靠近基板的位置加強(qiáng)流量進(jìn)行吸塵。該吸塵機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了完全吸塵的效果。

圖3 紫外激光打標(biāo)機(jī) #p#分頁(yè)標(biāo)題#e#  #p#分頁(yè)標(biāo)題#e# #p#分頁(yè)標(biāo)題#e#  #p#分頁(yè)標(biāo)題#e# #p#分頁(yè)標(biāo)題#e# #p#分頁(yè)標(biāo)題#e#  圖4光纖激光打標(biāo)機(jī) #p#分頁(yè)標(biāo)題#e# #p#分頁(yè)標(biāo)題#e#  #p#分頁(yè)標(biāo)題#e# #p#分頁(yè)標(biāo)題#e#  #p#分頁(yè)標(biāo)題#e# #p#分頁(yè)標(biāo)題#e#   #p#分頁(yè)標(biāo)題#e#圖5 CO2激光打標(biāo)機(jī)